机回来的二百四十八纳米地光刻机，采用了一五地浸式技术，立即就摇一变，成为一百六十五纳米光刻机，远远超过现有的光刻技术！

其实浸式光刻，并非寰宇公司首创。但真正长期将其作为一个研究项目的研究单位，全世界也只有寰宇公司。

光刻技术的发展，从一代技术向下一代技术发展地时候。总会现瓶颈。

因此，早在八零年。就有科学家采用浸技术，成功地提了光刻效果。然而，由于浸式光刻技术，它的很容易污染光学镜片，所以主光刻技术研究，只是将其作为一个过渡手段，没有重视。一旦下一代光刻技术成熟，便毫不犹豫地抛弃浸式光刻。

但寰宇公司不同。

汪工等密仪公司的研究人员。虽然使浑解数。但限于光学技术的制约。在光刻机上，总是落后于西方。

穷则变。变则通。

他们为了改光刻度。把所有可以利用的技术，都使用遍了。最后，经过反复研究。他们在不放弃光学研究地同时，将主要力。都投了浸式光刻技术的研究，并于近期，取得了极大地成果。

他们开发了全地浸式技术。

如折光率不同的，就从一五五到二不等的多浸式材料。

而影响到光刻效果的泡沫、透光率、专用光刻胶等等相关研究，也取得了大的成功，已经初步可以实用化。

密仪实验室，已经选定了一特制，作为浸式光刻技术地主要材料。

这的折率达一七。通过实验和技术手段改，其透光率也完全可以应用于大规模生产。

只要汪工等将光刻机改造成功。寰宇公司将上得到两一百四十五纳米超度的光刻机。只此一项，就可以让寰宇公司遥遥领先世界平！

寰宇公司也对这项成熟技术。行了最严密的保护。

在国外衷于更度开发光学镜片、而忽略浸式光刻技术地时候，他们已经为此作了大量的工作。积累了丰富的经验。

这样，哪怕国外推再先地光刻机，他们也上可以利用浸式技术。超过对手。

而且，这技术更大地优势在于成本。

新开发地光刻技术，还存在技术不成熟、良品率过低地情况。但寰宇公司所采用的浸式光刻技术，依托地却是早已成熟的光刻机，在解决了一些材料方面的难题之后，其良品率，比新技术要数倍！

他们只需要使用不同折率的，就能得到不同度的光刻机！

汪工他们申请了一台超级计算机，用作设备改造专用。

他们对这台设备的每个件，都分别建模，存储在计算机内，行确分析。

萧虽然不得设备改造上完成。但他也明白在这件事上急不得。没有搞清楚光刻机的内结构，就贸然动手，很可能会破坏其密构建，得不偿失。